拓荊科技(688072)1月20日晚披露2024年年度業(yè)績預(yù)告,經(jīng)財務(wù)部門初步測算,預(yù)計公司2024年年度實現(xiàn)營業(yè)收入40億元至42億元,與上年同期相比增加12.95億元至14.95億元,同比增長47.88%至55.27%。
拓荊科技是國內(nèi)量產(chǎn)型PECVD(等離子體增強化學(xué)氣相沉積)、ALD(原子層沉積)、SACVD(次常壓化學(xué)氣相沉積)、HDPCVD(高密度等離子體增強化學(xué)氣相沉積)、超高深寬比溝槽填充CVD等薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備的領(lǐng)軍企業(yè)。拓荊科技目前已經(jīng)形成半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備兩個產(chǎn)品系列。拓荊科技聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機、刻蝕機共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。
我國近年來在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域發(fā)展較快,但高端半導(dǎo)體設(shè)備自給率仍較低,這也為包括拓荊科技在內(nèi)的國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備廠商的發(fā)展提供了巨大的成長機遇。
拓荊科技預(yù)計2024年年度營業(yè)收入較上年同期有較大增幅的主要原因是,公司作為國內(nèi)高端半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè),繼續(xù)專注于薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備的自主研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化,憑借在產(chǎn)品技術(shù)創(chuàng)新、客戶資源、售后服務(wù)等方面的核心競爭優(yōu)勢,PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、超高深寬比溝槽填充CVD(Flowable CVD)及混合鍵合設(shè)備等系列產(chǎn)品量產(chǎn)規(guī)模不斷擴大,持續(xù)獲得客戶訂單,公司業(yè)務(wù)規(guī)模呈現(xiàn)快速增長趨勢。2024年度,公司出貨超過1000個設(shè)備反應(yīng)腔,創(chuàng)公司歷史年度新高。
另外,公司在2024年度持續(xù)保持高強度的研發(fā)投入,堅持自主創(chuàng)新,在推進新產(chǎn)品研發(fā)、產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化和各產(chǎn)品系列迭代升級的過程中取得了重要成果,包括Flowable CVD設(shè)備、PECVD Bianca工藝設(shè)備、PE-ALD SiN工藝設(shè)備、HDPCVDFSG、HDPCVD STI工藝設(shè)備、鍵合套準(zhǔn)精度量測設(shè)備等一系列新產(chǎn)品及新工藝經(jīng)下游用戶驗證導(dǎo)入,實現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化,同時,新型設(shè)備平臺PF-300M、PF-300TPlus及新型反應(yīng)腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工藝設(shè)備順利通過客戶驗證,并取得客戶重復(fù)訂單,實現(xiàn)大批量出貨,進一步提升了公司產(chǎn)品性能及核心競爭力,助力公司收入穩(wěn)步增長。
據(jù)證券時報記者了解,目前,拓荊科技成熟產(chǎn)品的核心技術(shù)及關(guān)鍵性能指標(biāo)均已達到國際同類設(shè)備先進水平,并在客戶端廣泛應(yīng)用,這與拓荊科技不斷加大力度推進產(chǎn)品研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化密不可分。
2021年至2023年,拓荊科技研發(fā)投入分別為2.88億元、3.79億元和5.76億元,研發(fā)投入在營業(yè)收入中的占比分別為38.04%、22.21%和21.29%。2024年前三季度,拓荊科技研發(fā)投入4.81億元,同比增長35.73%。
截至2024年6月30日,拓荊科技累計申請專利1279項(含PCT)、獲得專利402項。其中,拓荊科技今年上半年新增申請專利74項(含 PCT)、新增獲得專利45項。
拓荊科技此前在接受證券時報記者采訪時表示,隨著公司先進產(chǎn)品陸續(xù)推出,公司業(yè)務(wù)規(guī)模逐步擴大,產(chǎn)品布局逐漸完善,客戶認(rèn)可度持續(xù)攀升,產(chǎn)品已成功應(yīng)用于行業(yè)領(lǐng)先集成電路制造企業(yè)產(chǎn)線,設(shè)備出貨量大幅增加。