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證券時(shí)報(bào)記者 孫憲超

拓荊科技(688072)2月27日晚披露2024年度業(yè)績快報(bào)，2024年度公司實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入41.03億元，同比增長51.7%；凈利潤6.88億元，同比增長3.91%；扣非凈利潤3.56億元，同比增長14.2%。

拓荊科技是國內(nèi)量產(chǎn)型PECVD（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、SACVD（次常壓化學(xué)氣相沉積）、HDPCVD（高密度等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）、超高深寬比溝槽填充CVD等薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備的領(lǐng)軍企業(yè)。拓荊科技目前已經(jīng)形成半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備兩個(gè)產(chǎn)品系列。拓荊科技聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。

得益于拓荊科技不斷加大力度推進(jìn)產(chǎn)品研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化，公司成熟產(chǎn)品的核心技術(shù)及關(guān)鍵性能指標(biāo)均已達(dá)到國際同類設(shè)備先進(jìn)水平，并在客戶端廣泛應(yīng)用。2021年至2023年，拓荊科技研發(fā)投入分別為2.88億元、3.79億元和5.76億元，研發(fā)投入在營業(yè)收入中的占比分別為38.04%、22.21%和21.29%。2024年前三季度，拓荊科技研發(fā)投入4.81億元，同比增長35.73%。

從影響拓荊科技2024年經(jīng)營業(yè)績的主要因素看，面向國內(nèi)集成電路行業(yè)快速發(fā)展帶來的機(jī)遇，公司作為國內(nèi)高端半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)，繼續(xù)專注于薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備的自主研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化，憑借在產(chǎn)品技術(shù)創(chuàng)新、客戶資源、售后服務(wù)等方面的核心競爭優(yōu)勢，PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVD及混合鍵合設(shè)備等系列產(chǎn)品量產(chǎn)規(guī)模不斷擴(kuò)大，持續(xù)獲得客戶訂單，公司業(yè)務(wù)規(guī)模快速增長。

另外，拓荊科技始終持續(xù)保持高強(qiáng)度的研發(fā)投入，堅(jiān)持自主創(chuàng)新，在推進(jìn)新產(chǎn)品研發(fā)、產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化和各產(chǎn)品系列迭代升級的過程中取得了重要成果，包括Flowable CVD設(shè)備、PECVD Bianca工藝設(shè)備、PE-ALD SiN工藝設(shè)備、HDPCVD FSG、HDPCVD STI工藝設(shè)備、鍵合套準(zhǔn)精度量測設(shè)備等一系列新產(chǎn)品及新工藝經(jīng)下游用戶驗(yàn)證導(dǎo)入，實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化。同時(shí)，新型設(shè)備平臺PF-300M、PF-300T Plus及新型反應(yīng)腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工藝設(shè)備持續(xù)獲得客戶重復(fù)訂單，實(shí)現(xiàn)大批量出貨，進(jìn)一步提升了公司產(chǎn)品性能及核心競爭力。

2024年度，拓荊科技出貨超過1000個(gè)設(shè)備反應(yīng)腔，創(chuàng)公司歷史年度新高。

談及2024年?duì)I業(yè)收入同比增長51.7%的原因，拓荊科技表示，主要系市場需求持續(xù)增長，公司新產(chǎn)品及新工藝訂單陸續(xù)實(shí)現(xiàn)收入轉(zhuǎn)化，營業(yè)收入持續(xù)高速增長。